光学电镀-光学电镀厂商-东莞市仁睿电子科技
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不影响产量的简化选择方案与PVD不同，ALD技术无需旋转基底材料。这意味着用更简单的方法就能达到更大的产量。Beneq P400A实现了高均匀度、批量生产和高沉积率的的优化组合。Beneq ALD工艺技术满足了在复杂3D结构表面均匀沉积薄膜的高保形性。这为任意形状的光学器件、球型透镜、光栅等应用提供了成熟可靠的镀膜方案。
与蒸发沉积不同，原子层沉积 (ALD) 的源材料不需要从固体中蒸发，而是直接以气体的形式提供。尽管使用了气体，但在真空室中仍然经常使用高温。在 ALD 过程中，前体以非重叠脉冲的形式传递，每个脉冲都具有自限性。该过程的化学设计使得只有一个单一的层可以依附每个脉冲，表面的几何形状不是限制因素。由此可对层厚度和设计实现非凡的控制。
对光学涂层有不同类型的要求。在某些情况下，例如在镜子中，期望的效果是产生具有高反射率的产品。通过选择具有相反折射率的材料并堆叠它们，可以增加成品中的反射率。对于廉价的反射镜，典型的光学镀膜材料是铝镀膜玻璃。由于银会反射更多的光，像银这样更昂贵的涂层将导致更昂贵的镜子的制造，从而具有更高的质量。光学电镀光学电镀
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